atmospheric-pressure chemical vapor deposition
- atmospheric-pressure chemical vapor deposition
- cheminis garinis nusodinimas atmosferos slėgyje
statusas T sritis radioelektronika
atitikmenys: angl. atmospheric-pressure chemical vapor deposition
vok. chemische Abscheidung aus der Gasphase bei atmosphärischem Druck, f
rus. химическое осаждение из паровой фазы при атмосферном давлении, n
pranc. dépôt chimique en phase vapeur à pression atmosphérique, m
Radioelektronikos terminų žodynas. – Vilnius : BĮ UAB „Litimo“.
Kazimieras Gaivenis, Gytis Juška, Vidas Kalesinskas.
2000.
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Plasma-enhanced chemical vapor deposition — PECVD machine at LAAS technological facility in Toulouse, France. Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) is a process used to deposit thin films from a gas state (vapor) to a solid state on a substrate. Chemical reactions are involved… … Wikipedia
Chemical Vapour Deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
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